标题

Precision mask for deposition and a method for manufacturing the same, an electroluminescence display and a method for manufacturing the same, and electronic equipment

授权日

2006-06-07

公开（公告）号

EP1441572B1

申请日

2004-01-08

公开（公告）日

2006-06-07

当前申请（专利权）人

SEIKO EPSON CORPORATION

发明人

YOTSUYA, SHINICHI | KUWAHARA, TAKAYUKI

简单同族

CN100364140C | CN1518399A | DE602004001054D1 | DE602004001054T2 | EP1441572A1 | EP1441572B1 | JP2004225071A | JP4222035B2 | KR100645606B1 | KR1020040067929A | TW200415245A | TWI267561B | US20040214449A1 | US7033665

简单同族成员数量

14

简单同族被引用专利总数

38

诉讼案件数

0

法律状态/事件

授权