真空蒸着方法及び真空蒸着装置、並びにこの真空蒸着方法により製造したELパネル

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真空蒸着方法及び真空蒸着装置、並びにこの真空蒸着方法により製造したELパネル
授权日

1900-01-01
公开（公告）号

JP2004259598A
申请日

2003-02-26
公开（公告）日

2004-09-16
当前申请（专利权）人

株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人

弓場賢治 | 梅津寛
简单同族

JP2004259598A | JP4257497B2
简单同族成员数量

2
简单同族被引用专利总数

36
诉讼案件数

0
法律状态/事件

未缴年费 | 权利转移