标题：
Apparatus for etching substrate and fabrication line for fabricating liquid crystal display using the same
授权日：
2016-08-09
公开(公告)号：
US9411178
申请日：
2012-09-25
公开(公告)日：
2016-08-09
当前申请(专利权)人：
LG DISPLAY CO., LTD.
发明人：
PARK, SANG MIN | LIM, EUN SUB | CHUN, WON SEOP | PARK, MAN HEON
简单同族：
CN101197255A | CN101197255B | CN101881901A | CN101881901B | JP2008146072A | JP4705624B2 | KR101375848B1 | KR1020080053055A | TW200839928A | TWI376765B | US20080135176A1 | US20130023180A1 | US8293065 | US9411178
简单同族成员数量：
14
简单同族被引用专利总数：
19
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权