标题：
Process for fabricating a thin film semiconductor device, thin film semiconductor device, and liquid crystal display
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
US20050059219A1
申请日：
2004-09-14
公开(公告)日：
2005-03-17
当前申请(专利权)人：
SONY CORPORATION
发明人：
TAYANAKA, HIROSHI
简单同族：
CN100394563C | CN100578808C | CN101026187A | CN1599067A | JP2005093625A | JP2005093625A5 | JP4554180B2 | US20050059219A1 | US20060281235A1 | US20090224267A1 | US7626200 | US7696020 | US7804094
简单同族成员数量：
13
简单同族被引用专利总数：
63
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
未缴年费 | 权利转移