标题：
Pattern formation method using reflow enhancement layer and method for manufacturing reflective type liquid crystal display device using the same
授权日：
2003-05-06
公开(公告)号：
US6559917
申请日：
2001-11-13
公开(公告)日：
2003-05-06
当前申请(专利权)人：
VISTA PEAK VENTURES, LLC
发明人：
IKENO, HIDENORI
简单同族：
JP2002156651A | KR100486185B1 | KR1020020038516A | TWI293388B | US20020057414A1 | US6559917
简单同族成员数量：
6
简单同族被引用专利总数：
19
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权 | 权利转移