标题：
Pattern forming method, method of manufacturing thin film transistor substrate, method of manufacturing liquid crystal display and exposure mask
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
US20040229410A1
申请日：
2004-01-30
公开(公告)日：
2004-11-18
当前申请(专利权)人：
SHARP KABUSHIKI KAISHA
发明人：
TAKIZAWA, HIDEAKI
简单同族：
JP2004226898A | JP4365594B2 | US20040229410A1 | US7279257
简单同族成员数量：
4
简单同族被引用专利总数：
28
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权 | 权利转移