标题：
Method for fabricating thin film pattern, device and fabricating method therefor, method for fabricating liquid crystal display, liquid crystal display, method for fabricating active matrix substrate, electro-optical apparatus, and electrical apparatus
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
US20050003640A1
申请日：
2004-05-27
公开(公告)日：
2005-01-06
当前申请(专利权)人：
SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：
USHIYAMA, TOSHIHIRO | HIRAI, TOSHIMITSU | MIKOSHIBA, TOSHIAKI | KIGUCHI, HIROSHI | HASEI, HIRONORI
简单同族：
CN1573449A | JP2005013984A | JP4344270B2 | KR100667662B1 | KR1020040103345A | TW200509180A | TWI254340B | US20050003640A1 | US20080272388A1 | US7410905
简单同族成员数量：
10
简单同族被引用专利总数：
96
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
未缴年费 | 权利转移