标题：
高分子薄膜、高分子薄膜の製造方法、およびバイオチップ
授权日：
2008-04-04
公开(公告)号：
JP4106215B2
申请日：
2002-01-21
公开(公告)日：
2008-06-25
当前申请(专利权)人：
KISCO株式会社 | 第三化成株式会社
发明人：
中村 英一 | 柴山 健一 | 丸山 宏 | 井上 崇
简单同族：
JP2003212974A | JP4106215B2
简单同族成员数量：
2
简单同族被引用专利总数：
12
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权