标题：
高精度分析物測定用システム及び方法
授权日：
2019-11-01
公开(公告)号：
JP6609001B2
申请日：
2018-06-04
公开(公告)日：
2019-11-20
当前申请(专利权)人：
シラグ·ゲーエムベーハー·インターナショナル
发明人：
シャトリエ ロナルド シー. | ホッジズ アラステア エム.
简单同族：
JP2018155770A | JP6609001B2
简单同族成员数量：
2
简单同族被引用专利总数：
0
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权