标题：
組織への光浸透の深さを調節する方法、およびこれを用いた診断的応用
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2003523793A5
申请日：
2000-10-06
公开(公告)日：
2005-01-06
当前申请(专利权)人：
アボット·ラボラトリーズ
发明人：
ハリル,オーマー·エス | イエー,シユウ-ジエン | ウー,シヤオマオ | カンター,スタニスロー | ハンナ,チヤールズ·エフ | ジエン,ツイー-ウエン
简单同族：
CA2387789A1 | EP1223854A1 | JP2003523793A | JP2003523793A5 | WO2001028417A1
简单同族成员数量：
5
简单同族被引用专利总数：
26
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
撤回