标题：
媒質に照射を行うシステム
授权日：
2018-06-22
公开(公告)号：
JP6357263B2
申请日：
2017-04-26
公开(公告)日：
2018-07-11
当前申请(专利权)人：
キヤノン株式会社
发明人：
増村 考洋
简单同族：
CN102510993A | CN102510993B | CN106644947A | CN106644947B | JP2013505110A | JP2014166360A | JP2016101519A | JP2017187779A | JP5501465B2 | JP5875616B2 | JP6138294B2 | JP6357263B2 | US10433734 | US20110071402A1 | US20150238092A1 | US9057695 | WO2011037844A1
简单同族成员数量：
17
简单同族被引用专利总数：
38
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权