标题：
Method and apparatus for measuring substrate concentration
授权日：
2012-08-22
公开(公告)号：
EP2154521B1
申请日：
2008-04-15
公开(公告)日：
2012-08-22
当前申请(专利权)人：
ARKRAY, INC.
发明人：
KAMATA, TATSUO | TAKAGI, TAKESHI | ITO, YUKI
简单同族：
EP2154521A1 | EP2154521A4 | EP2154521B1 | JP5054765B2 | JPWO2008133121A1 | US20100288650A1 | US8535510 | WO2008133121A1
简单同族成员数量：
8
简单同族被引用专利总数：
2
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权