标题：
Simple Approach For Preparing Post-Treatment-Free Solution Processed Non-Stoichiometric Niox Nanoparticles As Conductive Hole Transport Materials
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
US20170110679A1
申请日：
2015-10-14
公开(公告)日：
2017-04-20
当前申请(专利权)人：
THE UNIVERSITY OF HONG KONG
发明人：
CHOY, WALLACE C.H. | JIANG, FEI
简单同族：
US10315929 | US10604419 | US20170110679A1 | US20190248674A1
简单同族成员数量：
4
简单同族被引用专利总数：
0
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权 | 权利转移