标题：
Polymer mask and manufacture method of polymer mask and applied thereof
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
US20190221741A1
申请日：
2017-09-11
公开(公告)日：
2019-07-18
当前申请(专利权)人：
WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：
TANG, FAN
简单同族：
CN107574408A | CN107574408B | US20190221741A1 | WO2019033481A1
简单同族成员数量：
4
简单同族被引用专利总数：
2
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
实质审查 | 权利转移