标题：
Method for manufacturing vapor deposition mask and method for vapor deposition of organic light-emittng material
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
US20190355938A1
申请日：
2018-07-19
公开(公告)日：
2019-11-21
当前申请(专利权)人：
HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：
CHEN, YING-CHIEH | MIZUNO, YASUHIRO
简单同族：
CN110512172A | JP2019203188A | JP6661711B2 | KR1020190132941A | US10553834 | US20190355938A1
简单同族成员数量：
6
简单同族被引用专利总数：
0
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权 | 权利转移