标题：
Mask vapor deposition method, mask vapor deposition system, mask, process for manufacturing mask, apparatus for manufacturing display panel, display panel, and electronic device
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
US20040142108A1
申请日：
2003-11-24
公开(公告)日：
2004-07-22
当前申请(专利权)人：
SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：
ATOBE, MITSURO | YOTSUYA, SHINICHI
简单同族：
CN1522098A | EP1426462A2 | EP1426462A3 | JP2004183044A | KR100641478B1 | KR1020040050045A | TW200420735A | TWI235184B | US20040142108A1
简单同族成员数量：
9
简单同族被引用专利总数：
207
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
撤回 | 权利转移