标题：
Photoresist mask/smoothing layer ensuring the field homogeneity and better step-coverage in OLED displays
授权日：
2007-03-13
公开(公告)号：
US7190112
申请日：
2006-06-16
公开(公告)日：
2007-03-13
当前申请(专利权)人：
NATIONAL RESEARCH COUNCIL OF CANADA
发明人：
TAO, YE
简单同族：
US20040075385A1 | US20060220545A1 | US7086917 | US7190112
简单同族成员数量：
4
简单同族被引用专利总数：
41
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
未缴年费