标题：
Precision mask for deposition and a method for manufacturing the same, an electroluminescence display and a method for manufacturing the same, and electronic equipment
授权日：
2006-06-07
公开(公告)号：
EP1441572B1
申请日：
2004-01-08
公开(公告)日：
2006-06-07
当前申请(专利权)人：
SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：
YOTSUYA, SHINICHI | KUWAHARA, TAKAYUKI
简单同族：
CN100364140C | CN1518399A | DE602004001054D1 | DE602004001054T2 | EP1441572A1 | EP1441572B1 | JP2004225071A | JP4222035B2 | KR100645606B1 | KR1020040067929A | TW200415245A | TWI267561B | US20040214449A1 | US7033665
简单同族成员数量：
14
简单同族被引用专利总数：
38
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权