标题：
真空蒸着装置、真空蒸着方法、および、有機EL表示装置の製造方法
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2012216374A
申请日：
2011-03-31
公开(公告)日：
2012-11-08
当前申请(专利权)人：
株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：
三宅 竜也 | 玉腰 武司 | 石原 慎吾 | 松浦 宏育 | 峰川 英明
简单同族：
JP2012216374A
简单同族成员数量：
1
简单同族被引用专利总数：
1
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
撤回