标题：
真空蒸着方法及び真空蒸着装置、並びにこの真空蒸着方法により製造したELパネル
授权日：
2009-02-13
公开(公告)号：
JP4257497B2
申请日：
2003-02-26
公开(公告)日：
2009-04-22
当前申请(专利权)人：
株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：
弓場 賢治 | 梅津 寛
简单同族：
JP2004259598A | JP4257497B2
简单同族成员数量：
2
简单同族被引用专利总数：
36
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
未缴年费 | 权利转移