标题：
有機EL用マスククリーニング装置、有機ELディスプレイの製造装置および有機EL用マスクのクリーニング方法
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2011222355A
申请日：
2010-04-12
公开(公告)日：
2011-11-04
当前申请(专利权)人：
株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：
井崎 良 | 弓場 賢治 | 片桐 賢司 | 木谷 友香
简单同族：
JP2011222355A
简单同族成员数量：
1
简单同族被引用专利总数：
0
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
驳回