标题：
有機EL用マスククリーニング装置、有機ELディスプレイの製造装置、有機ELディスプレイおよび有機EL用マスククリーニング方法
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2011086496A
申请日：
2009-10-15
公开(公告)日：
2011-04-28
当前申请(专利权)人：
株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：
鈴木 庫三 | 井崎 良 | 片桐 賢司
简单同族：
JP2011086496A
简单同族成员数量：
1
简单同族被引用专利总数：
13
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
撤回