标题：
蒸着薄膜のパターン形成方法およびそれを用いた有機ELパネルの製造方法
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2008147016A
申请日：
2006-12-11
公开(公告)日：
2008-06-26
当前申请(专利权)人：
富士電機ホールディングス株式会社
发明人：
寺本 亮平 | 河村 幸則 | 川口 剛司 | 寺尾 豊
简单同族：
JP2008147016A
简单同族成员数量：
1
简单同族被引用专利总数：
5
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
撤回