标题：
有機EL表示素子の絶縁膜を形成するための感放射線性組成物、それから形成された絶縁膜、および有機EL表示素子
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2003288991A
申请日：
2002-10-31
公开(公告)日：
2003-10-10
当前申请(专利权)人：
JSR株式会社
发明人：
白木 真司 | 鈴木 正睦 | 佐々木 寛文 | 丹羽 一明
简单同族：
JP2003288991A | JP3752687B2
简单同族成员数量：
2
简单同族被引用专利总数：
17
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权