标题：
成膜用精密マスク及びその製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法、電子機器
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2004225071A
申请日：
2003-01-20
公开(公告)日：
2004-08-12
当前申请(专利权)人：
セイコーエプソン株式会社
发明人：
四谷 真一 | 桑原 貴之
简单同族：
CN100364140C | CN1518399A | DE602004001054D1 | DE602004001054T2 | EP1441572A1 | EP1441572B1 | JP2004225071A | JP4222035B2 | KR100645606B1 | KR1020040067929A | TW200415245A | TWI267561B | US20040214449A1 | US7033665
简单同族成员数量：
14
简单同族被引用专利总数：
38
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权 | 权利转移