标题：
薄膜パターン形成方法、それに使用するマスク、マスクの製造方法及び有機EL表示装置の製造方法
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2013077541A5
申请日：
2012-02-20
公开(公告)日：
2013-12-05
当前申请(专利权)人：
株式会社ブイ·テクノロジー
发明人：
水村 通伸 | 工藤 修二
简单同族：
JP2013077541A | JP2013077541A5 | JP5884543B2
简单同族成员数量：
3
简单同族被引用专利总数：
8
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权