标题：
薄膜パターンの形成方法、有機ELディスプレイの製造方法及び有機ELディスプレイ
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2008034198A
申请日：
2006-07-27
公开(公告)日：
2008-02-14
当前申请(专利权)人：
富士電機ホールディングス株式会社
发明人：
寺尾 豊
简单同族：
JP2008034198A
简单同族成员数量：
1
简单同族被引用专利总数：
2
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
撤回