标题：
薄膜パターン形成方法及び有機EL表示装置の製造方法
授权日：
2016-06-24
公开(公告)号：
JP5953566B2
申请日：
2011-10-24
公开(公告)日：
2016-07-20
当前申请(专利权)人：
株式会社ブイ·テクノロジー
发明人：
水村 通伸
简单同族：
JP2013089586A | JP5953566B2
简单同族成员数量：
2
简单同族被引用专利总数：
2
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权