标题：
パターン形成装置、パターン形成方法、有機電界発光素子ディスプレイの製造装置及び製造方法
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2002075639A
申请日：
2000-08-29
公开(公告)日：
2002-03-15
当前申请(专利权)人：
ソニー株式会社
发明人：
大海 元祐 | 柿沼 正康 | 林 弘志 | 河島 利孝
简单同族：
JP2002075639A
简单同族成员数量：
1
简单同族被引用专利总数：
16
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
撤回