标题：
薄膜パターン形成方法及び有機EL表示装置の製造方法。
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2013020764A
申请日：
2011-07-08
公开(公告)日：
2013-01-31
当前申请(专利权)人：
株式会社ブイ·テクノロジー
发明人：
工藤 修二 | 水村 通伸 | 梶山 康一 | ハニー マハール アジズ
简单同族：
JP2013020764A | JP5895382B2 | TW201316118A | WO2013008745A1
简单同族成员数量：
4
简单同族被引用专利总数：
16
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权