标题：
真空蒸着方法、真空蒸着装置、有機EL表示装置の製造方法及び有機EL表示装置
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2013041685A
申请日：
2011-08-11
公开(公告)日：
2013-02-28
当前申请(专利权)人：
株式会社ブイ·テクノロジー
发明人：
工藤 修二 | 木村 江梨子 | 水村 通伸 | 梶山 康一
简单同族：
JP2013041685A | JP5899583B2
简单同族成员数量：
2
简单同族被引用专利总数：
0
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权