标题：
用于沉积OLED像素的金属材料的沉积掩模及其制造方法
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
CN111295773A
申请日：
2018-08-24
公开(公告)日：
2020-06-16
当前申请(专利权)人：
LG伊诺特有限公司
发明人：
金海植 | 白智钦
简单同族：
CN111295773A | EP3678204A2 | KR1020190023652A | WO2019045375A2 | WO2019045375A3
简单同族成员数量：
5
简单同族被引用专利总数：
0
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
实质审查