标题：
비정질 투명 도전막, 그 원료 스퍼터링 타겟, 비정질 투명전극 기판, 그 제조방법, 및 액정 디스플레
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
KR1020060009945A
申请日：
2004-04-19
公开(公告)日：
2006-02-01
当前申请(专利权)人：
이데미쓰 고산 가부시키가이샤
发明人：
이노우에가즈요시
简单同族：
CN100585752C | CN1791948A | EP1626416A1 | EP1626416A4 | JPWO2004105054A1 | KR101099927B1 | KR1020060009945A | TW200502589A | TWI370913B | US20070117237A1 | US7897067 | WO2004105054A1
简单同族成员数量：
12
简单同族被引用专利总数：
100
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
未缴年费