标题

Method and apparatus for measuring substrate concentration

授权日

2012-08-22

公开（公告）号

EP2154521B1

申请日

2008-04-15

公开（公告）日

2012-08-22

当前申请（专利权）人

ARKRAY, INC.

发明人

KAMATA, TATSUO | TAKAGI, TAKESHI | ITO, YUKI

简单同族

EP2154521A1 | EP2154521A4 | EP2154521B1 | JP5054765B2 | JPWO2008133121A1 | US20100288650A1 | US8535510 | WO2008133121A1

简单同族成员数量

8

简单同族被引用专利总数

2

诉讼案件数

0

法律状态/事件

授权