真空蒸着装置、真空蒸着方法、および、有機EL表示装置の製造方法

详情

文本

图像

标题

真空蒸着装置、真空蒸着方法、および、有機EL表示装置の製造方法
授权日

1900-01-01
公开（公告）号

JP2012216374A
申请日

2011-03-31
公开（公告）日

2012-11-08
当前申请（专利权）人

株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人

三宅竜也 | 玉腰武司 | 石原慎吾 | 松浦宏育 | 峰川英明
简单同族

JP2012216374A
简单同族成员数量

1
简单同族被引用专利总数

1
诉讼案件数

0
法律状态/事件

撤回