有機EL用マスククリーニング装置、有機EL用ディスプレイの製造装置、有機EL用ディスプレイおよび有機EL用マスククリーニング方法

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有機EL用マスククリーニング装置、有機EL用ディスプレイの製造装置、有機EL用ディスプレイおよび有機EL用マスククリーニング方法
授权日

1900-01-01
公开（公告）号

JP2010218932A
申请日

2009-03-18
公开（公告）日

2010-09-30
当前申请（专利权）人

株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人

片桐賢司 | 亀山大樹 | 弓場賢治
简单同族

JP2010218932A | JP5302724B2
简单同族成员数量

2
简单同族被引用专利总数

0
诉讼案件数

0
法律状态/事件

未缴年费