真空蒸着方法、真空蒸着装置、有機EL表示装置の製造方法及び有機EL表示装置

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真空蒸着方法、真空蒸着装置、有機EL表示装置の製造方法及び有機EL表示装置
授权日

1900-01-01
公开（公告）号

JP2013041685A
申请日

2011-08-11
公开（公告）日

2013-02-28
当前申请（专利权）人

株式会社ブイ·テクノロジー
发明人

工藤修二 | 木村江梨子 | 水村通伸 | 梶山康一
简单同族

JP2013041685A | JP5899583B2
简单同族成员数量

2
简单同族被引用专利总数

0
诉讼案件数

0
法律状态/事件

授权